膜厚儀的特點(diǎn)及技術(shù)參數

        膜厚儀又稱(chēng)膜厚儀、膜厚測試儀。分為磁感應涂層測厚儀、渦流涂層測厚儀、熒光X射線(xiàn)涂層測厚儀。使用磁感應原理時(shí)，涂層的厚度是通過(guò)從探頭通過(guò)非鐵磁涂層流入鐵磁基體的磁通量的大小來(lái)測量的。也可以測量相應磁阻的大小來(lái)表示涂層的厚度。
        可用于在線(xiàn)膜厚測量、氧化物、感光保護膜、半導體膜等。它還可用于測量涂在鋼、鋁、銅、陶瓷和塑料上的粗糙薄膜層。薄膜表面或界面 反射光會(huì )干擾來(lái)自基材的反射光。干涉的發(fā)生與薄膜的厚度和折射率有關(guān)，因此可以計算薄膜的厚度。光學(xué)干涉儀是一種無(wú)損、快速的光學(xué)薄膜厚度測量技術(shù)，薄膜測量系統利用光學(xué)干涉原理來(lái)測量薄膜的厚度。
        膜厚儀的特點(diǎn)
        1、可測量多層膜中各層的厚度
        2、三維厚度剖面
        3、遙控及在線(xiàn)測量
        4、可以做大范圍150mm或300mm的掃描測試

        5、豐富的素材庫：操作軟件的素材庫有大量素材的n、k數據，基本常用素材都包含在這個(gè)素材庫中。用戶(hù)還可以輸入材料庫中沒(méi)有的材料。

         6、軟件操作簡(jiǎn)單，測量速度快：膜厚測量?jì)x操作非常簡(jiǎn)單，測量速度快： 100ms-1s。

         7、軟件具有建筑材料結構擴展功能，可對單/多層薄膜數據進(jìn)行擬合分析，可進(jìn)行薄膜材料的預仿真設計。
         8、軟件具有可升級的掃描功能，對薄膜進(jìn)行二維測試，并以2D或3D形式顯示結果。軟件的其他升級功能包括在線(xiàn)分析軟件、遠程控制模塊等。
        膜厚儀技術(shù)參數
        測厚：10nm-250um； 250nm-1100nm之間任意波長(cháng)可選擇，在此范圍內也可選擇多波長(cháng)分析；
        波長(cháng)：250 -1100nm
        厚度范圍：10nm--250m
        分辨率：0,1nm
        重復性：0,3n米
        準確率：<1[%] (100nm--100m)
        測試時(shí)間：100ms -- <1s
        分析層數：1-- 4
        距離光纖：1-5mm
        與光纖的距離：5mm-- 100mm
        入射角：90°
        光斑尺寸：400m